PVD超硬涂層以其高硬度和耐磨特性而眾所周知。通常這種膜層被沉積在刀具及耐磨部件上,其厚度范圍在0.5 – 6 μm。

為控制這種膜層的內(nèi)應(yīng)力，這種涂層主要采用納米多層結(jié)構(gòu)，以避免因較厚的單層膜而容易出現(xiàn)剝落現(xiàn)象。

按照一個(gè)客戶的要求，PVT公司開始著手開發(fā)一個(gè)工業(yè)化生產(chǎn)涂層工藝，用于沉積20微米厚的單層氮化鈦。經(jīng)過6個(gè)月的開發(fā),一臺PVT S2超硬涂層設(shè)備被制造出來，滿足了客戶的所有需求，這也特別歸功于PDA*技術(shù)。

該系統(tǒng)沉積出的20微米厚TiN膜層具有極其良好結(jié)合力，出色的重復(fù)性公差僅為+/- 0.2微米(總涂層厚度的+ / - 1%)。此外，通過新設(shè)計(jì)定制的旋轉(zhuǎn)夾具，沉積20微米厚膜層的時(shí)間可以從10.5小時(shí)減少到3個(gè)小時(shí)。

*PDA = Plasma Diffused Arc 等離子擴(kuò)散電弧